HORIBA掘場EV 2.0 等離子體排放監(jiān)測器北崎國際

HORIBA掘場EV 2.0 等離子體排放監(jiān)測器北崎國際

在半導體制造工藝中，等離子體技術用于各種制造工藝，包括薄膜沉積和蝕刻。
它是一種等離子體發(fā)光監(jiān)測器，可用于從各種等離子室的研發(fā)到生產線的廣泛應用，例如過程終點檢測、狀態(tài)管理和等離子體診斷。
從高分辨率、寬范圍和小尺寸三種新開發(fā)的型號中，可以根據用途選擇*規(guī)格。 此外，分析軟件可以滿足廣泛的需求，例如從血漿中的微小信號變化中檢測的終點，以及血漿過程的異常監(jiān)測。

• 3 種型號可供選擇，以滿足您的應用需求
• 可直接安裝在工藝室的窗口上
• 高度*化的軟件支持從研發(fā)到大規(guī)模生產的廣泛應用。
• 一臺 PC 可以同時測量多達 6 個腔室（6 個等離子體發(fā)射監(jiān)測

* 傳感器單元和 PC 配有 AC100V 電源。
* 有關光纖、腔室適配器、多通道 PC 和其他規(guī)格，請聯(lián)系我們。